供應HZ200水熱反應釜HZ200ml

HZ200水熱反應釜的詳細介紹：

HZ25水熱合成反應釜25ml HZ50合成釜50ml HZ100反應釜100ml HZ120水熱合成釜120ml HZ200水熱反應釜200ml HZ500高壓合成反應釜500 HZ200水熱反應釜HZ200ml 1．用途 HZ200水熱反HZ200ml是為在一定溫度、一定壓力條件下合成化學物質提供的反應器。它廣泛應用于新材料、能源、環(huán)境工程等領域的科研試驗中，是高校教學、科研單位進行科學研究的常用小型反應器。 2．特點 本HZ200水熱反HZ200ml采用型號為316L的優(yōu)質不銹鋼加工而成。釜體與釜蓋密封采用耐用、可靠的線密封結構，密封效果長期穩(wěn)定無泄漏。 本HZ200水熱反HZ200ml采用外加熱方式，以縮小體積，并有利多反應釜處于同一反應操作溫度（如將多個反應釜置于烘箱中加熱）。 3．主要技術指標 （1）．工作溫度：≤230℃ （2）．工作壓力：≤2MPa（表壓） （3）．升溫、降溫速率：≤5℃/min （4）.規(guī)格25，50，100，120，200ml另可根據(jù)用戶需求定做。 4.操作方法 將反應物系指與釜體內，并保證加料系數(shù)小于0.8。當反應物系有腐蝕性時要將其置于四氟襯套內，方可保證釜體不受腐蝕。 將HZ200水熱反HZ200ml置于加熱器內，按照規(guī)定的升溫速率升溫至所需反應溫度（小于規(guī)定的安全使用溫度）。待反應結束將其降溫時，也要嚴格按照規(guī)定的降溫速率操作，以利安全和反應釜的使用壽命。當確認腹內溫度低于反應物系種溶劑沸點后方能打開釜蓋進行后續(xù)操作。 每次反應釜使用后要及時將其清洗干凈，以免銹蝕。 釜體、釜蓋線密封處要格外注意清洗干凈，并嚴防將其碰傷損壞。

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