釹顆粒 鐠靶 鐠顆粒 鈥靶 鈥顆粒

真空鍍膜材料

（鍍制：復(fù)合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，氣敏傳感器膜，高溫介質(zhì)膜，光學(xué)膜，激光裝置濾光片，保護(hù)膜，透明導(dǎo)電膜，變色膜，優(yōu)良的寬帶增透膜，磁性薄膜，可見光區(qū)增透膜，紅外增透膜，分光膜，多層膜，高反射膜，電阻膜，熱反射膜，冷光膜膜）

高品質(zhì)真空鍍膜材料（4N-5N）：

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,

一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3

等高純氧化物鍍膜材料。

2.氟化物：氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2，氟化鈰CeF3，氟化鎂MgF2，氟化鑭LaF3，氟化釔YF3，

氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。

3.其它化合物：硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，

鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫化鎘CdS等真空鍍膜材料。

4.金屬鍍膜材料：高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，

高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，

金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，銅銦鎵合金CuInGa，

銅銦鎵硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。

備注：CNM生產(chǎn)的真空鍍膜材料均通過SGS認(rèn)證，純度高，濺點(diǎn)少，放氣量小，薄膜均勻，附著力強(qiáng)，抗腐蝕性強(qiáng)，顏色均勻等優(yōu)點(diǎn)。

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