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供應用于生產(chǎn)TCO玻璃的LPCVD? 理想能源以開發(fā)半導體設備的嚴謹態(tài)度和精細工藝來設計制造太陽能光伏設備。自2010年3月成功開發(fā)出靠前臺LPCVD設備以來，理想能源的設備已經(jīng)在客戶處平穩(wěn)運行至今。理想能源的設備具有以下特點 (加插圖1及插圖2)： ? ? 精細穩(wěn)定：所鍍氧化物薄膜厚度可在100-1700納米范圍內(nèi)自由設定，膜厚均勻性低于10% ? ? 高產(chǎn)能：根據(jù)所鍍膜厚度不同，鍍膜節(jié)拍范圍40-170秒，設備有效工
2011-05-18 0
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