? 1、設備名稱:ATON 1600 真空磁控濺射鍍膜線 2、產地:美國應用材料公司 3、功能:該系統專門針對光伏太陽能所需要的SIN層鍍膜設計,分為7個真空室:進料室、緩沖室、傳輸過渡室、濺射室1+濺射室2、傳輸過渡室、緩沖室、出料室。系統整體設計嚴格,采用分子泵高真空機組,配備高濺射效率的平面靶或旋轉靶,采用直流濺射。 設備也可以應用在ITO膜、SIO2膜、金屬膜,應用于如太陽能、LO
2015-10-12 面議/臺旋轉陰極 特點: 1、采用獨特的磁路設計,突破傳統模式,更符合磁控濺射的理念。 2、采用獨特的結構設計,冷卻充分,可滿足大功率、大電流使用要求。 3、更高的濺射率,離子密度更強。 4、更高的利用率,高達70以上。 5、尺寸范圍:靶材外尺寸70、100、150、250,保持一致的均勻性 6、使用范圍:如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等。 ? 使用領域:裝飾鍍、工具鍍、ITO
2015-10-12 0大平面濺射陰極 特點: 1、?采用獨特的磁路設計,突破傳統模式,更符合磁控濺射的理念。 2、?采用獨特的結構設計,可以內置、外置,更符合使用要求。 3、磁鐵不被冷卻水包圍,減少腐蝕,且保證磁力線的有效曲線分布。 4、獨特的布氣方式,更加保膜層濺射的均勻性,其等離子狀態(tài)更加平衡。 5、?更高的濺射率,離子密度更強。 6、?更高的利用率,高達40%以上。 7、?尺寸范圍:可在300-3
2015-10-12 0一、公司現有設備介紹: 1、德國馮阿登納真空濺射鍍膜流水線(VON ARDENNE WM 60),該設備有7個真空箱體,連續(xù)式鍍膜方式,配備4個陰極濺射,可鍍工件尺寸:1200mm*600mm ,配套冷水機組,全自動過程及工藝控制。 2、美國應用材料真空磁控鍍膜流水線(APPLIED? MATERIALS),該設備有5個真空箱體,連續(xù)式鍍膜方式,配備4個陰極濺射,可鍍工件尺寸:1800mm*1
2015-10-12 01、英文名稱:VON ARDENNE WM 60 HCM INLINE-SPUTTERANLAGE 2、中文名稱:馮阿登納真空濺射鍍膜流水線 3、產地:德國 4、規(guī)格:WM 60 5、功能:適合玻璃連續(xù)鍍膜,如太陽能、LOW-E、裝飾性膜層,另可以使用于壓克力,不銹鋼板,特殊材料表面處理等。 6、簡要介紹: 6.1、主體結構:7組真空箱體,連續(xù)式,長度12.6米 6.2、真空泵
2015-10-12 0ITO導電玻璃真空鍍膜流水線 該系統專門針對玻璃鍍ITO膜設計,分為9個真空室:進料室、輝光清洗室、過渡室、SIO2濺射室、過渡室、ITO濺射室、傳輸室、緩沖室、出料室。系統整體設計嚴格,采用分子泵高真空機組,可配備高濺射效率的平面靶或旋轉靶,采用直流濺射或中頻濺射,可以率的濺射AL膜、ITO膜、SIO2膜、銀膜、鉻膜、TiO膜等。 一、工藝膜系: 單面結構:Glass/ ITO/SiO2/
2015-10-12 面議/套預真空室具有雙層基片承載盤升降機,使得裝卸基片和濺射工藝同時進行,從而實現 “in-line”連續(xù)在線工作方式。由上至下濺射方式,12”x12”尺寸的基片承載盤,可放置不同尺寸及形狀的基片。基片承載盤單次/多次掃描沉積方式,準確地控制沉積膜的厚度,不需要膜厚檢測器,避免了因膜厚檢測器的測量誤差以及傳感器的消耗,節(jié)省了運行成本。生產量:9個4” 基片/次,6個6” 基片/次,1個12” 基片/次。
2015-10-12 0預真空室具有雙層基片承載盤升降機,使得裝卸基片和濺射工藝同時進行,從而實現 “in-line”連續(xù)在線工作方式。由上至下濺射方式,12”x12”尺寸的基片承載盤,可放置不同尺寸及形狀的基片;休d盤單次/多次掃描沉積方式,準確地控制沉積膜的厚度,不需要膜厚檢測器,避免了因膜厚檢測器的測量誤差以及傳感器的消耗,節(jié)省了運行成本。生產量:9個4” 基片/次,6個6” 基片/次,1個12” 基片/次。
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