氧化鎳靶材NiO磁控濺射靶材

科研實驗專用氧化鎳靶材NiO磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

氧化鎳（NiO）為綠色粉末狀固體，熔點：1980±20℃，密度：6.67g/cm³，不溶于水，不溶于堿液，為堿性氧化物，溶于酸和氨水。用作搪瓷的密著劑和著色劑，陶瓷和玻璃的顏料。在磁性材料生產(chǎn)中用于生產(chǎn)鎳鋅鐵氧體等，以及用作制造鎳鹽原料、鎳催化劑并在冶金、顯像管中應(yīng)用。用作電子元件材料、催化劑、搪瓷涂料和蓄電池材料。

產(chǎn)品參數(shù)

中文名 氧化亞鎳 化學(xué)式 NiO

分子量 74.71 熔點 1984℃

密度 6.67g/cm

支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價��！

服務(wù)項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制�？蒲袉挝回浀礁犊�，質(zhì)量保證，售后無憂！

產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備

質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！

我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。

注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！

建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。

北京晶邁中科材料技術(shù)有限公司創(chuàng)建于2016年,是國內(nèi)有色金屬行業(yè)綜合性研究開發(fā)公司。 現(xiàn)有員工100余人。我公司光學(xué)鍍膜材料中心以國內(nèi)的技術(shù)，多年來一直有經(jīng)驗從事光學(xué)鍍膜材料及濺射靶材的研發(fā)與生產(chǎn)。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復(fù)合物、金屬及合金等，也可根據(jù)您的要求量身定做。通過嚴(yán)格控制生產(chǎn)、并持續(xù)改進、穩(wěn)步發(fā)展，致力為客戶提供的產(chǎn)品。 公司現(xiàn)有靶材熱壓爐；真空蒸餾裝置，電解槽，單晶爐，區(qū)熔裝置，CVD（化學(xué)氣象沉積）裝置，PVD（物理氣象沉積）裝置，移動式加熱裝置等多種高純金屬和化合物生產(chǎn)研發(fā)設(shè)備；提純工藝包括：真空蒸餾；精餾；區(qū)域熔煉；電解；化學(xué)氣象沉積；物理氣象沉積；熱擴散；單晶提拉法等。純度從99.9%-99.99999%,公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品，產(chǎn)品涉及工具/裝飾鍍膜、玻璃鍍膜、光學(xué)鍍膜、平面顯示/觸摸屏鍍膜、薄膜太陽能鍍膜等多個領(lǐng)域廣泛應(yīng)用到國內(nèi)外眾多知名太陽能、航空航天、生物健康、軍工微電子、信息儲存、汽車、船舶、裝飾、工業(yè)鍍膜、新能源企業(yè)當(dāng)中。 自有設(shè)備：真空熱壓爐，真空中頻感應(yīng)熔煉爐，冷坩堝懸浮熔煉爐，非自耗真空電弧爐，真空高溫加熱爐，真空燒結(jié)爐，真空蒸餾爐，定向凝固，區(qū)域熔煉爐，多溫區(qū)加熱爐，單晶爐，高溫?zé)Y(jié)爐，單溫區(qū)，雙溫區(qū)、多溫區(qū)液相、氣相合成爐、氧化爐、加工設(shè)備。 北京晶邁中科材料技術(shù)有限公司幾年來已先后與國內(nèi)幾十家知名高校、中科院等研究院所建立了長期友好的合作關(guān)系，并與這些科研單位有密切的學(xué)術(shù)交流和技術(shù)合作項目，并遠銷歐洲、美國、日本、韓國等，在鍍膜行業(yè)擁有良好的聲譽。

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