供應(yīng)真空鍍膜設(shè)備

多功能離子鍍膜設(shè)備：

該系列設(shè)備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧電子蒸發(fā)三種技術(shù)融合一體，結(jié)合線(xiàn)性離化脈沖偏壓可使沉積顆料細(xì)化，膜層各項(xiàng)性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復(fù)合膜等。經(jīng)公司技術(shù)人員多年專(zhuān)注研發(fā)，通過(guò)特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，并開(kāi)發(fā)出整套PROPOWER系列計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制系統(tǒng)，使鍍膜膜層附著力致密度、從復(fù)度一致性好等特點(diǎn)，解決了人工手動(dòng)操作復(fù)雜性、膜層顏色不一致等問(wèn)題。廣泛適用于手表、手機(jī)殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各類(lèi)金屬石膜（DLC）。

1、 磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，把陰極表面磁場(chǎng)擴(kuò)展到接近工件表面，提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細(xì)膩又增強(qiáng)了表面光澤度。

2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，在優(yōu)化陰極及磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)鍍膜時(shí)可在30A電流下工作，鍍膜膜層和基底界面產(chǎn)生原子擴(kuò)散，又具有離子束輔助沉積的特點(diǎn)。

型號(hào)真空室尺寸 JTZ-800 JTL-1000 JTL-1250

￠800×1000MM ￠1000×1000MM ￠1250×1100MM

鍍膜方式及主要配置 六個(gè)多弧源+一套圓柱靶+一套平面矩形磁控濺射靶 八個(gè)多弧源+一對(duì)孿生（中頻）磁控濺射靶+一套平面矩形磁控濺射靶 十二個(gè)多弧源+一對(duì)孿生（中頻）磁控濺射靶+兩套平面矩形磁控濺射靶

鍍膜方式及主要配置 電弧電源、直流磁控電源、中頻磁控電源、燈絲電源、脈沖電源、線(xiàn)性離化源

工藝氣體控制 質(zhì)量流量計(jì)+電磁陶瓷閥

真空室結(jié)構(gòu) 立式側(cè)（單）開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)，雙層水冷

真空系統(tǒng)組成 分子泵+羅茨泵+機(jī)械泵（5.0×10-4PA）

工件烘烤溫度 常溫到500度可調(diào)可控(PID控溫),輻射加熱

工件運(yùn)動(dòng)方式 公自轉(zhuǎn)變頻調(diào)速,0~20轉(zhuǎn)/分

測(cè)量方式 數(shù)顯復(fù)合真空計(jì):測(cè)量范圍從大氣至1.0×10-5PA

控制方式 手動(dòng)/自動(dòng)/PC/PLC+HMI/PC四種方式可選

備注 以上設(shè)備可按客戶(hù)實(shí)際及特殊工藝要求設(shè)計(jì)訂做

東莞市莞真真空設(shè)備有限公司成立于2008年，一直誠(chéng)心服務(wù)于中國(guó)真空制造業(yè)各領(lǐng)域，我公司是一家有經(jīng)驗(yàn)真空應(yīng)用及設(shè)備開(kāi)發(fā)制造的高科技企業(yè)。本公司擁有一批真家行業(yè)資歷豐富相關(guān)人士、工程師及售后服務(wù)者。所制造的真空鍍膜設(shè)備已成功廣泛應(yīng)用到塑膠、工藝禮品、電子、玩具、鞋材、五金、陶瓷、飾品、汽車(chē)等行業(yè)。