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我國(guó)玻璃電熔現(xiàn)狀及發(fā)展方向

來(lái)源: 2013/12/18 11:43:26

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  (3)鉛晶質(zhì)玻璃全電熔窯內(nèi)電較的選用
  
  目前在鉛玻璃全電熔窯上使用的電較有兩種,一種是氧化錫電較,特點(diǎn)是抗還原能力差,適用于氧化性玻璃;另一種是鉬電較,特點(diǎn)是舒緩反應(yīng)能力差,適用于還原性玻璃。氧化錫電較非常適用于熔制鉛玻璃。在熔制鉛玻璃的電熔窯中,如果使用鉬電較,會(huì)在不同程度上受到氧化,并且玻璃中的氧化鉛被還原,生成金屬鉛沉到熔化池底,這樣設(shè)計(jì)的電熔窯必須每天在池底放料。
  
  (4)我國(guó)鉛玻璃電熔窯的現(xiàn)狀及發(fā)展前景
  
  我國(guó)鉛玻璃電熔窯目前主要使用在以下幾個(gè)地方:
  
  鉛晶質(zhì)玻璃器皿。
  
  光學(xué)玻璃。
  
  寶石玻璃。
  
  燈飾玻璃。后三者都必須與鉑金坩堝共同使用。
  
  (5)我國(guó)鉛玻璃電熔窯使用的窯型
  
  我國(guó)鉛玻璃電熔窯使用的窯型主要有:
  
  (a)T型窯:即上大下小的形狀,氧化錫電較垂直安裝在兩邊的臺(tái)階上,采用單相供電或三相SCOT供電。
  
  (b)矩形窯:上下大小的一樣,氧化錫電較水平安裝在兩邊的池壁上,采用單相供電或三相SCOT供電。
  
  (6)我國(guó)鉛玻璃電熔窯有待改進(jìn)的地方
  
  我國(guó)鉛玻璃電熔窯使用中常出現(xiàn)一些問(wèn)題有:
  
  (a)水套與銀桿斷開(kāi),由于設(shè)計(jì)上或操作的不當(dāng),六支銀桿全部斷在氧化錫電較內(nèi),造成無(wú)法供電。
  
  (b)氧化錫電較的頭部斷在窯爐內(nèi)。
  
  出現(xiàn)上述問(wèn)題的原因的設(shè)計(jì)人員沒(méi)有掌握鉛玻璃電熔窯的一些特點(diǎn)。
  
  3.3.3熔制硼硅酸鹽玻璃的全電熔窯爐
  
  硼硅酸鹽玻璃在傳統(tǒng)的火焰池窯熔制過(guò)程中,常常會(huì)遇到硼的揮發(fā)逸散損失的問(wèn)題。硼的揮發(fā)不僅使玻璃液不均勻,惡化玻璃質(zhì)量,而且還白白地?fù)p失了價(jià)格昂貴的硼原料。因此,國(guó)外對(duì)減少硼的揮發(fā)問(wèn)題進(jìn)行了長(zhǎng)期研究。迄今為止,硼的揮發(fā)率在10~15%,如果采用無(wú)水硼砂或硼酐作原料,可以降低到5~10%。
  
  自從厚料層垂直深層全電熔窯出現(xiàn)后,給高硼硅玻璃的熔化帶來(lái)了新方法,大幅度降低了硼的揮發(fā)。采用這種方法使硼的揮發(fā)率降低到1~2%。我國(guó)硼硅玻璃的生產(chǎn)基本上采用火焰窯。在高硼硅玻璃系統(tǒng)中,玻璃質(zhì)量達(dá)不到理想程度。

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