鉿濺射靶材 具有與金屬鉿相同的性能。它的熔點(diǎn)2233 °C,沸點(diǎn)4603°C,密度13.31g /cm3,是一種帶光澤的銀灰色的過渡金屬。金屬鉿強(qiáng)度適中,抗腐蝕性好,中子吸收能力高,大量用于原子能工業(yè);鉿可以生成多種合金,還可作賤金屬的表面包膜。 我公司可提供進(jìn)口低鋯高純鉿,可加工成靶材,顆粒等。 ? 鉿靶材制備工藝流程 備料 - 電子束熔煉 - 化學(xué)分析 - 鍛造 - 軋制 - 退火 - 金相
2024-07-03 面議/片鍺濺射靶材由高純鍺金屬組成。是一種硬而脆的材料,具有半金屬,灰白色的外觀。它的密度為5.35 g / cc,熔點(diǎn)為937°C,在1,167°C下的蒸氣壓為10 -4 Torr。在光學(xué)存儲(chǔ)介質(zhì)和光學(xué)涂層的生產(chǎn)中,它經(jīng)常在真空下蒸發(fā)以形成層。這種材料的其他用途是用作合金化劑和催化劑。 鍺靶材制備工藝流程 備料 - 區(qū)域熔煉 - 化學(xué)分析 - 鍛造 - 軋制 - 退火 - 金相檢測 - 機(jī)加工 -
2024-07-03 面議/片硒化鋅材料對(duì)熱沖擊具有很高的承受能力,使它成為高功率CO2激光器系統(tǒng)中的光學(xué)材料。硬度只是多光譜級(jí)ZnS的2/3,材質(zhì)較軟易產(chǎn)生劃痕,而且材料折射率較大,所以需要在其表面鍍制高硬度減反射膜來加以保護(hù)并獲得較高的透過率。在其常用光譜范圍內(nèi),散射很低。在用做高功率激光器件時(shí),需要嚴(yán)格控制材料的體吸收和內(nèi)部結(jié)構(gòu)缺陷,并采用最小破壞程度的拋光技術(shù)和光學(xué)質(zhì)量的鍍膜工藝。 光學(xué)性能 體吸收系數(shù) : 0.00
2024-07-03 面議/片硒化銻(Sb2Se3)靶材 99.99% 理化性質(zhì)硒化銻為灰色塊狀物,熔點(diǎn):611℃。分子量: 480.4。CAS號(hào): 1315-05-5。密度: 5.843g/cm3。保持貯藏器密封、儲(chǔ)存在陰涼、干燥的地方,確保工作間有良好的通風(fēng)或排氣裝置。 應(yīng)用領(lǐng)域三硒化二銻是一種無機(jī)化合物,化學(xué)式為Sb2Se3。它在自然界以硫化物礦石硒銻礦存在,晶體結(jié)構(gòu)屬于正交晶系。這種化合物中,銻的氧化態(tài)為 3而硒為-
2024-07-03 面議/片硒化鎘(CdSe)靶材? 99.99% 理化性質(zhì) 熔點(diǎn):1350℃。分子量: 191.371。CAS號(hào): 1306-24-7。密度: 5.81g/cm3 1.由金屬鎘與硒化氫共熱可制得硒化鎘。也可通過高溫,使金屬鎘與硒直接化合而得。2.將硒化氫氣體通入氯化鎘溶液,使硒化鎘沉淀析出,通過抽濾、洗滌、干燥,便可得硒化鎘產(chǎn)品。應(yīng)用領(lǐng)域用于電子發(fā)射器和光譜分析、光導(dǎo)體、半導(dǎo)體、光敏元件等。 ?
2024-07-02 面議/片硒化鉍(Bi2Se3)靶材 99.99% 理化性質(zhì)硒化鉍斜方六面體晶結(jié)構(gòu)。黑色結(jié)晶體物質(zhì). 密度6.82g/cm3。熔點(diǎn)710℃。不溶于堿,易為濃酸、王水所分解。由硒和鉍直接反應(yīng)或氧化鉍和硒化氫作用制取,為半導(dǎo)體材料和溫差電材料。 應(yīng)用領(lǐng)域它是一種半導(dǎo)體,為熱電材料。具有完美化學(xué)計(jì)量比的硒化鉍是半導(dǎo)體,帶寬為0.3 eV,其硒空穴是電子授體,化學(xué)性質(zhì)類似半金屬. 在硒化鉍中,觀察到了拓?fù)浔Wo(hù)表面態(tài)
2024-07-02 面議/片鐵酸鉍(BiFeO3)靶材 99.99% 鐵酸鉍(BiFeO3 ),屬于多鐵性(multiferroic)材料的一種,具有鐵電性和反鐵磁性,是當(dāng)前多鐵材料研究的熱點(diǎn)之一。其鐵電居里溫度820 ℃,反鐵磁奈爾溫度370℃,因此在室溫下具有多鐵性,其具有廣闊的應(yīng)用前景
2024-07-02 面議/片關(guān)于本網(wǎng)| 大事記|玻璃展會(huì)|熱點(diǎn)搜索|玻璃人才|玻璃名錄|站點(diǎn)地圖|活動(dòng)推廣|隱私聲明|版權(quán)聲明|玻璃供應(yīng)|聯(lián)系我們|English
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