北京金源新材科技有限公司

主營:磁控濺射靶材,蒸發(fā)鍍膜材料,高純金屬材料

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  • 氧化亞銅(Cu2O)靶材 99.9%
    氧化亞銅(Cu2O)靶材 99.9%

    氧化銅靶材由于其特性,可以用于多種應(yīng)用,包括但不限于: 1.??? 集成電路(IC)制造:在IC制造中,氧化銅靶材可以用于形成導(dǎo)電路徑、絕緣層和各種功能性薄膜。 2.??? 光伏產(chǎn)業(yè):氧化銅靶材作為太陽能電池的核心材料,用于捕獲太陽光并轉(zhuǎn)化為電能。 3.??? 顯示技術(shù):包括液晶顯示(LCD)和有機發(fā)光二極管(OLED)技術(shù),靶材用于制造顯示屏的導(dǎo)電層和發(fā)光層。 4.??? 存儲技術(shù):在硬盤驅(qū)動器

    2024-06-21 面議/片
  • 氧化銅(CuO)靶材 99.99%
    氧化銅(CuO)靶材 99.99%

    氧化銅(CuO)靶材 顏色:黑色 純度:3N,4N 規(guī)格:D25.4x6.35mm,D54x1.5mm,D101.6x3.175mm ? 氧化銅靶材(CuO target)是一種在半導(dǎo)體制造過程中使用的濺射靶材。濺射靶材是在物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)等半導(dǎo)體制造過程中,用于沉積形成薄膜或涂層的固態(tài)材料。這些薄膜或涂層在半導(dǎo)體器件中承擔(dān)電氣、光學(xué)或結(jié)構(gòu)功能,是實現(xiàn)高性能半導(dǎo)體產(chǎn)品

    2024-06-21 面議/片
  • 氧化鉻(Cr2O3)靶材 99.99%
    氧化鉻(Cr2O3)靶材 99.99%

    氧化鉻靶材?氧化鉻顆粒 純度:99.99% 分子式:Cr2O3 分子量:151.99 CAS:1308-38-9 熔點:2435℃ 折射率:2.551 密度:5.21 顏色:暗綠色晶體 在10-4Torr蒸發(fā)溫度:200℃? 薄膜的機械和化學(xué)性質(zhì):對低的氧化物不相稱,空氣中600℃重新氧化;應(yīng)用:吸收膜、制造低溫(900℃)紅釉、可加入搪瓷中可獲得綠色;用于搪瓷底釉或者面釉;可用于瓷釉中,以產(chǎn)生鉻

    2024-06-21 面議/片
  • 氧化鈷(Co2O3 )靶材 99.9%
    氧化鈷(Co2O3 )靶材 99.9%

    三氧化二鈷(Co2O3),為無機化合物,是鈷的黑色氧化物

    2024-06-21 面議/片
  • 氧化鉍(Bi2O3)靶材 99.99%
    氧化鉍(Bi2O3)靶材 99.99%

    三氧化二鉍靶材 純度:99.99% 化學(xué)式:Bi2O3 熔點:825℃ 密度:8.9 折射率:2.5 透明波段:0.4微米

    2024-06-21 面議/片
  • 氧化鎵(Ga2O3)靶材 99.999%
    氧化鎵(Ga2O3)靶材 99.999

    三氧化二鎵靶材 純度:99.999% 化學(xué)式:Ga2O3 分子量:187.44 CAS:12024-21-4 熔點:1740℃ 三氧化二鎵用作高純分析**、應(yīng)于電子工業(yè)半導(dǎo)體的制備。

    2024-06-21 面議/片
  • 三氧化鉬(MoO3)靶材 99.99%
    三氧化鉬(MoO3)靶材 99.99

    三氧化鉬(MoO3)靶材 99.99%

    2024-06-21 面議/片
  • 二氧化錳(MnO2)靶材  99.9%
    二氧化錳(MnO2)靶材 99.9

    二氧化錳顆粒 純度:99.99% 分子式:MnO2 分子量:86.94 CAS號:1313-13-9 熔點:535℃ 密度:5.03 二氧化錳用于金屬錳、特種合金和電子材料鐵氧體等,不適合電子束蒸發(fā)。

    2024-06-21 面議/片
  • 氧化鎂(MgO)靶材 99.99%
    氧化鎂(MgO)靶材 99.99%

    氧化鎂靶材 純度:99.99% 分子式:MgO 分子量:40.3 熔點:2852℃ 沸點:3600℃ CAS號:1309-48-4 密度:3.58 外觀:白色 硬度:6.0-6.5 在10ˉ4真空下蒸發(fā)溫度為:1500℃? 溶 解 于:強酸,不溶于水和乙醇 透明波段:200-8000nm? 折射率(波長/nm):1.85(220) ?1.7(500) 性能:有高度耐火絕緣性能,高溫下具有優(yōu)良的耐酸

    2024-06-21 面議/片
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