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北京金源新材科技有限公司 > 其它 > 氮化鉭(TaN)靶材 99.9%

氮化鉭(TaN)靶材 99.9%

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    氮化鉭(TaN)靶材 99.9%

    氮化鉭陶瓷靶材是一種分子式為TaN的氮化物陶瓷濺射材料, 其熔點(diǎn)3090℃,密度14.3g/cm³。它有時(shí)用于在銅或其他導(dǎo)電金屬與介電絕緣膜(如熱氧化物)之間創(chuàng)建阻擋層或“膠水”層。這些薄膜在集成電路制造過程中沉積在硅片頂部,以創(chuàng)建薄膜表面貼裝電阻器和其他電子應(yīng)用。

    氮化鉭 (TaN) 薄膜是一種有吸引力的擴(kuò)散阻擋涂層材料,用于電子工業(yè)。TaN薄膜是通過直流濺射、CVD和脈沖激光沉積等方法制造的。在這項(xiàng)研究中,為了降低能源成本,在低真空條件下通過反應(yīng)濺射將 TaN 薄膜沉積在 Si (111) 晶片、鈉玻璃基板上。N2/Ar 氣的質(zhì)量流量在 N2 氣下從 9% 到 23% 不等。在較低的 N2 氣流下,獲得結(jié)晶 TaN 薄膜。使用 XRD 在其他速率范圍內(nèi)觀察到非晶如 TaN 薄膜。通過 GDS 深度分析,在結(jié)晶 TaN 膜與 Si 晶片和玻璃基板之間觀察到 Ta 氧化物層。膜厚為200-400nm。

    北京金源新材科技有限公司基本信息

    主營行業(yè):化工原料、輔料 // 碎玻璃,其它 // 其它 公司注冊(cè)地址:北京 法人代表:李偉娟
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