二氧化釩（VO2）靶材 99.9%

薄膜沉積技術(shù)

a. 磁控濺射

· 原理：磁控濺射利用高能粒子轟擊靶材，將靶材原子或分子濺射到襯底表面形成薄膜。這一過(guò)程在真空環(huán)境中進(jìn)行，以確保薄膜的純凈度。

· 優(yōu)勢(shì)：適用于大面積均勻薄膜的制備，且可通過(guò)改變?yōu)R射參數(shù)，如功率和氣壓，精確控制薄膜的厚度和組成。

· 應(yīng)用：廣泛應(yīng)用于光伏電池、平面顯示器和光電傳感器的生產(chǎn)。

b. 脈沖激光沉積（PLD）

· 原理：PLD技術(shù)通過(guò)高能激光脈沖轟擊靶材，產(chǎn)生高溫等離子體，使靶材的物質(zhì)在襯底上沉積形成薄膜。

· 優(yōu)勢(shì)：能夠在較低的溫度下制備高質(zhì)量、結(jié)晶性良好的薄膜，特別適合于制備復(fù)雜組成和結(jié)構(gòu)的氧化物薄膜。

· 應(yīng)用：在高溫超導(dǎo)體、光電器件和納米材料的制備中占有重要地位。

c. 優(yōu)化與控制

· 參數(shù)優(yōu)化：沉積參數(shù)如溫度、壓力、氣氛和靶材距離等，需精確調(diào)節(jié)以?xún)?yōu)化薄膜的結(jié)構(gòu)和性能。

· 質(zhì)量控制：通過(guò)實(shí)時(shí)監(jiān)控技術(shù)，如光譜分析和電子顯微鏡，確保薄膜的均勻性和質(zhì)量符合預(yù)期標(biāo)準(zhǔn)。

每種沉積技術(shù)都有其獨(dú)特之處，選擇合適的技術(shù)對(duì)于實(shí)現(xiàn)特定的薄膜性能至關(guān)重要。了解這些技術(shù)的原理和優(yōu)勢(shì)，能夠幫助研究人員和工程師更好地應(yīng)用這些技術(shù)，創(chuàng)造出符合未來(lái)科技需求的創(chuàng)新材料。

主營(yíng)行業(yè)：化工原料、輔料 // 碎玻璃,其它 // 其它 公司注冊(cè)地址：北京 法人代表：李偉娟
員工人數(shù)：10-50人 廠(chǎng)房面積： 年?duì)I業(yè)額：人民幣50萬(wàn)元/年-人民幣100萬(wàn)元/年
年進(jìn)口額：人民幣10萬(wàn)元/年-人民幣30萬(wàn)元/年 年出口額：人民幣10萬(wàn)元/年-人民幣30萬(wàn)元/年 主要市場(chǎng)：
客戶(hù)群：
公司名稱(chēng):北京金源新材科技有限公司
注冊(cè)資本:人民幣100萬(wàn)元/年-人民幣200萬(wàn)元/年 公司網(wǎng)址：http://ginsrc.glass.com.cn

主營(yíng)產(chǎn)品：磁控濺射靶材,蒸發(fā)鍍膜材料,高純金屬材料 公司成立年份：2014
公司網(wǎng)址：http://ginsrc.glass.com.cn

產(chǎn)品屬性：
計(jì)量單位：片 供貨總量：100 最小起訂量：1 產(chǎn)品單價(jià)：2300.00 品牌： 規(guī)格型號(hào)： 包裝說(shuō)明：