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主營(yíng):PLD真空鍍膜機(jī),多功能離子鍍膜機(jī),卷繞鍍膜機(jī),蒸發(fā)鍍膜機(jī),ICP等離子刻蝕設(shè)備,多弧離子鍍膜機(jī),ITO真空玻璃鍍膜機(jī),CVD金剛石生產(chǎn)設(shè)備,真空排氣臺(tái),進(jìn)口機(jī)組及泵,鍍膜專項(xiàng)使用電源,真空標(biāo)準(zhǔn)件,PLD真空鍍膜機(jī),多功能離子鍍膜機(jī),卷繞鍍膜機(jī),蒸發(fā)鍍膜機(jī),ICP等離子刻蝕設(shè)備,多弧離子鍍膜機(jī),ITO真空玻璃鍍膜機(jī),CVD金剛石生產(chǎn)設(shè)備,真空排氣

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    供應(yīng)PECVD增強(qiáng)型

    本設(shè)備為多功能型超高真空等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備主要由全真空專用不銹鋼腔體,分子泵高真空系統(tǒng),電源,生長(zhǎng)機(jī)體載體及溫控系統(tǒng),獨(dú)立排氣和生長(zhǎng)壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng),冷卻循環(huán)水輔助設(shè)備等組成。整機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設(shè)備控制系統(tǒng)采用邏輯按鈕手動(dòng)控制與工控機(jī)自控控制可選。實(shí)現(xiàn)真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設(shè)備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaA

    2011-06-22 0
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