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靶材****有望獲得重點支持。在半導(dǎo)體材料行業(yè)中，靶材行業(yè)屬于高等靶材仍在日美等國把控，但是國產(chǎn)替代已經(jīng)嶄露頭角，呈現(xiàn)定點打破局面，正是需要社會資金大力投入奮力追趕之關(guān)鍵時刻。按照半導(dǎo)體材料占比產(chǎn)業(yè)9%，靶材占比材料3%比例測算，靶材行業(yè)有望獲得超過30億元投資支持，直接利好****公司。隨著FPD靶材國產(chǎn)化的發(fā)展以及加速國產(chǎn)化靶材的成長，免稅政策有必要取消，帶背板的濺射靶材組件的****普通稅率為17%。如果征收關(guān)稅，提高海外靶材供應(yīng)成本，將有利于國產(chǎn)化靶材的發(fā)展和滲透率提升。

國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)一直受制于人，每年大量從海外****，****金額居所有****商品中位，超過市場上熟知的貨品和鐵礦石等資源品。近年來。中興制裁與華為都給我們敲響警鐘，芯片等核心技術(shù)產(chǎn)業(yè)亟需發(fā)展，國產(chǎn)替代刻不容緩。作為半導(dǎo)體材料中的重要一環(huán)—濺射靶材同樣如此，國產(chǎn)化是必然之路。在競爭格局上，由于濺射鍍膜工藝起源于國外，所需要的濺射靶材產(chǎn)品性能要求高，長期以來大部分國家濺射靶材研制和生產(chǎn)主要集中在美國、日本少數(shù)幾家公司，產(chǎn)業(yè)集中度相當(dāng)高。以霍尼韋爾（美國）、日礦金屬（日本）、東曹（日本）等為代表的濺射靶材生產(chǎn)商占據(jù)大部分國家絕大部分市場份額。 這些企業(yè)在掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后，實施極其嚴(yán)格的保密措施，限制技術(shù)擴散，同時不斷進行橫向擴張和垂直整合，將業(yè)務(wù)觸角積極擴展到濺射鍍膜的各個應(yīng)用領(lǐng)域，牢牢把握著大部分國家濺射靶材市場的主動權(quán)，并帶領(lǐng)著大部分國家濺射靶材行業(yè)的技術(shù)進步。

盡管全世界各大廠生產(chǎn)的材料幾乎都能99.99%的純度，但卻唯有日本廠商的材料能將純度達到99.999%。半導(dǎo)體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等；芯片封裝材料包括封裝基板（39%）、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。磷化銦靶材(InP)，鉛靶材(PbAs)，銦靶材(InAs)。用準(zhǔn)確儀器設(shè)備在半導(dǎo)體芯片各個功能層上鍍覆一層薄薄的透明金屬導(dǎo)電膜，這層膜的厚度因功能需求而有不同，一般在30納米至200納米之間，不足頭發(fā)絲直徑五百分之一，以實現(xiàn)半導(dǎo)體金屬的物理化學(xué)性能，業(yè)界將這種層稱為薄膜。制造鎢靶材的大致過程就是先按配比進行用粉末混合，再經(jīng)高溫?zé)Y(jié)成形。

靶坯屬于濺射靶材的核心部分，是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料。靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。由于高純度金屬強度較低，因此濺射靶材需要在高電壓、高真空的機臺環(huán)境內(nèi)完成濺射過程。非常高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜。在半導(dǎo)體芯片制造的金屬化工藝過程中，氧化鎢薄膜是一種被廣泛研究的功能材料。芯片行業(yè)擁有一條超長的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設(shè)計、制造、封裝、四大環(huán)節(jié)。除了在設(shè)計領(lǐng)域，華為海思擁有一定的打破能力，其他三個環(huán)節(jié)，尤其是在制造環(huán)節(jié)，國內(nèi)廠商的能力仍有較大的提升空間。

7-陽極(真空室)；8-靶電源；對靶磁控濺射裝置，由靶兩側(cè)的磁鐵及電磁線圈產(chǎn)生的通向磁場構(gòu)成對靶磁控濺射陰極的磁路，兩塊靶材對向平行放置。業(yè)內(nèi)相關(guān)人士指出，結(jié)合薄片化技術(shù)可進一步降低異質(zhì)結(jié)電池的硅用量，節(jié)省成本。UVTM靶材事業(yè)部在2007年成立，致力于生產(chǎn)高品質(zhì)的磁控濺射靶材，公司擁有粉末冶金、冶煉澆注、3D噴涂、冷等靜壓等多套靶材制備設(shè)備和工藝技術(shù)。主要生產(chǎn)銷售陶瓷靶材（ITO靶材、AZO靶材、氧化鈮靶材等）、金屬靶材（高純銀靶、鈮靶、銅靶等）和合金靶材（鎳鉻合合金靶、銀銅合金靶、銅鋅合金靶等），產(chǎn)品遠銷20多個國家和地區(qū)。濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點，一般由靶坯和背板組成。

噴涂靶材。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用力度強磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電（glowdischarge）將氬氣（Ar）離子撞擊靶材（target）表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在濮純金屬靶材。UVTM是國家高新技術(shù)企業(yè)，公司成立于二00三年，專業(yè)從事信息、鍍膜、太陽能材料的科研與生產(chǎn)。公司從德國、日本、引進先進的生產(chǎn)、檢測設(shè)備和專業(yè)人才，是集科研、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)于一體的中外合資企業(yè)。

主營行業(yè)：化工原料、輔料//玻璃油墨 化工原料、輔料//其它 公司注冊地址：廣州市尤特新材料有限公司 法人代表：周志宏
員工人數(shù)：200-500人 廠房面積： 年營業(yè)額：
年進口額： 年出口額： 主要市場：
客戶群：
公司名稱:廣州市尤特新材料有限公司
注冊資本:人民幣2000萬元/年-人民幣5000萬元/年 公司網(wǎng)址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

主營產(chǎn)品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
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