鉻靶材生產(chǎn)廠家,高純鉻管靶,鉻靶材,鉻靶材價(jià)格

靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。靶材通常有兩類：平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材，由于平面靶的利用率只有20-30％，因此，旋轉(zhuǎn)靶逐漸成為工業(yè)化鍍膜行業(yè)的主流產(chǎn)品。磁控濺射鍍膜靶材在使用時(shí)，需要將靶材與背管綁定，來滿足生產(chǎn)設(shè)備的安裝及導(dǎo)電、散熱要求，目前常用的綁定方法是用銦或錫作為綁定材料。因此，靶材與背管的綁定技術(shù)就成為了關(guān)鍵技術(shù)，直接影響靶材的正常使用。

濺射靶材是用濺射法沉積薄膜的原材料，主要應(yīng)用于面板顯示、半導(dǎo)體和磁記錄薄膜太陽能領(lǐng)域。特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的氣相沉積工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過在PVD設(shè)備中用離子對(duì)目標(biāo)物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。相比PVD的另一種工藝——真空鍍膜，濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)。

一直致力于所有高性能材料的研發(fā)和生產(chǎn)，為您提供超值的高品質(zhì)、高技術(shù)和優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。作為國內(nèi)靶材行業(yè)專業(yè)供應(yīng)商，我們熱忱歡迎國內(nèi)外廣大客戶來電咨詢公司產(chǎn)品，來廠實(shí)地考察、蒞臨指導(dǎo)，相信我們一定會(huì)為您提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品、滿意的服務(wù)！鍍膜和終端應(yīng)用等環(huán)節(jié)。其中，關(guān)鍵環(huán)節(jié)。其中，陶瓷化合物靶材包含氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等。2014年，霍尼韋爾研發(fā)出等徑角塑型（ECAE）新型靶材，具有更高的材質(zhì)硬度和更少的雜質(zhì)顆粒，牢牢把控著國內(nèi)市場(chǎng)的高等領(lǐng)域。半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)Π胁牡囊蠓浅８�，�?duì)濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)，需要掌握生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。因而有實(shí)力產(chǎn)出高純電子級(jí)靶材的企業(yè)與公司并不得多。半導(dǎo)體材料可以分為晶圓材料和封裝材料，導(dǎo)體材料市場(chǎng)占比在3%左右的濺射靶材。

磁控濺射技術(shù)是一種先進(jìn)的高質(zhì)量薄膜沉積手段。其工作原理為：電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過程中與濺射氣體原子發(fā)生碰撞，電離出大量的正離子和電子。電子飛向基片，而正離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上終形成所需的薄膜。硅(Si)基濺射靶材是眾多濺射靶材中發(fā)展為迅速且應(yīng)用較廣的一種靶材。Si是一種傳統(tǒng)的半導(dǎo)體材料，近幾年由于磁控濺射制備薄膜技術(shù)的發(fā)展使得其在很多領(lǐng)域得到新的應(yīng)用。

噴涂制備金屬靶是利用電弧將靶材材料加熱到熔融或半熔融狀態(tài)，借助高速氣體將其霧化，形成小的熔滴，并加速噴射到襯管或襯板表面，快速冷卻凝固成金屬涂層靶材的過程。非金屬和陶瓷靶通常是利用等離子加熱粉末材料的方法噴涂制成。 靶材熔鑄技術(shù)可分為三種不同的澆鑄形式：無襯管或襯板的整體式甩帶澆鑄、有襯管或襯板的直接澆鑄、分段甩帶澆鑄再粘結(jié)成靶材（Ag等）。熱噴涂和熔鑄靶材不同的生產(chǎn)過程決定了不同的成本構(gòu)成。 熱噴涂靶材的生產(chǎn)成本隨靶材厚度的增加而加大，噴涂靶材可以通過調(diào)整噴涂工藝獲得不同的靶材尺寸，噴涂的時(shí)間、消耗的氣體和能量是影響其成本的主要因素。而熔鑄旋轉(zhuǎn)靶材的成本隨厚度變化較小，靶材先熔鑄成型，而后機(jī)械加工達(dá)到尺寸 要求。對(duì)于不同尺寸的旋轉(zhuǎn)靶材，其原材料和加工成本基本是固定的。國外企業(yè)大多使用的是噴涂工藝的旋轉(zhuǎn)陰極靶材，靶材的利用率高，高可以到達(dá)80%，因而大量節(jié)約鍍膜成本，噴涂旋轉(zhuǎn)靶材在鍍膜行業(yè)得到了廣泛應(yīng)用。金屬鈮靶材。

靶材成本居高不下，是異質(zhì)結(jié)電池產(chǎn)業(yè)化過程中的一個(gè)大阻礙。由于HJT核心生產(chǎn)工藝僅四步，分別對(duì)應(yīng)4種專用設(shè)備：清洗制絨機(jī)、PECVD、PVD或者RPD、絲網(wǎng)印刷機(jī)。對(duì)比海內(nèi)外四大設(shè)備，海外設(shè)備較為成熟，但核心設(shè)備價(jià)格較高不具備量產(chǎn)經(jīng)濟(jì)性。目前海外清洗制絨機(jī)約1000萬元/臺(tái)（250MW），絲網(wǎng)印刷機(jī)約1200萬元/套（200MW），和國產(chǎn)設(shè)備價(jià)格基本一致，且性能基本相當(dāng)，不構(gòu)成產(chǎn)業(yè)化的障礙。PVD約3000萬/臺(tái)（250MW），國產(chǎn)設(shè)備在快速跟進(jìn)，本身壁壘不高，也不是產(chǎn)業(yè)化的障礙。HJT量產(chǎn)的關(guān)鍵點(diǎn)在于PECVD。2019年海外應(yīng)材和梅耶博格的PECVD價(jià)格接近5億元/GW，設(shè)備雖然成熟但價(jià)格太高。整線的設(shè)備投資達(dá)到7-8億元。fe。

不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。密度為了減少靶材固體中的氣孔。日本顯示公司（簡(jiǎn)稱JDI）日前宣布與半導(dǎo)體能源研究所簽署了技術(shù)開發(fā)協(xié)議，雙方將聯(lián)合開發(fā)用于代顯示器（包括OLED顯示器）的氧化物半導(dǎo)體背板技術(shù)（Ode-semiconductorbackplechnolo）。SEL的背板技術(shù)被稱為c-軸對(duì)齊晶體（CAAC），是其與夏普（Sharp）聯(lián)合開發(fā)的。CAAC是基于具有新型晶體結(jié)構(gòu)的IGZO薄膜。SEL表示，CAAC-IGZO（稱之為氧化物半導(dǎo)體CAAC-OS）具有極低的關(guān)閉電流，可較大地降低功耗。SEL成功制備了CAAC-OS原型背板。

公司主要生產(chǎn)平板顯示器用靶材，鍍膜玻璃工業(yè)（主要包括建筑玻璃，汽車玻璃，光學(xué)鍍膜玻璃等）用靶材，電阻靶材，汽車車燈鍍膜用靶材等。主營真空鍍膜靶材、濺射靶材、鈦靶、鉻靶、鎳靶、鋯靶、鈦鋁靶、銅靶等。在冶金礦產(chǎn)－金屬加工材行業(yè)獲得廣大客戶的認(rèn)可。公司秉承“保證高等質(zhì)量，保持一級(jí)信譽(yù)”的經(jīng)營理念，堅(jiān)持“客戶”的原則為廣大客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。歡迎來電洽談業(yè)務(wù)！尤特新材生產(chǎn)的靶材等具有高純度、高密度、高加工精度、晶粒細(xì)小、籌備均勻等優(yōu)點(diǎn)，歡迎各界人士前來選購，若您還有濺射靶材相關(guān)的任何任何疑問，歡迎免費(fèi)咨詢服務(wù)。尤特新材始終堅(jiān)持誠信生產(chǎn)經(jīng)營、重、守信譽(yù)、堅(jiān)持質(zhì)量、用戶至上。始終保證材料的品質(zhì)。追求用戶的終身價(jià)值和品牌效益。

靶材的方法很多。大體上，可以按材質(zhì)、按形狀、按應(yīng)用領(lǐng)域。按形狀可分為長(zhǎng)靶、方靶、圓靶。金屬靶材（純金屬鋁、鈦、銅、鉭等）、合金靶材（鎳鉻合金、鎳鈷合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。按應(yīng)用領(lǐng)域靶材可分為半導(dǎo)體芯片靶材、平板顯示靶材、太陽能電池靶材、信息存儲(chǔ)靶材、工具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。稀土領(lǐng)域，UVTM是全國范圍內(nèi)稀土技術(shù)能力比較一體的后起之秀。尤特新材具備從稀土選礦、稀土分離，稀土金屬制備的全流程原創(chuàng)技術(shù)�，F(xiàn)在大部分國家范圍內(nèi)70%的稀土選冶都源于我們的技術(shù)。目前尤特新材是大部分國家能生產(chǎn)多種非常高純稀土金屬的企業(yè)。材料技術(shù)也具備國內(nèi)****水平。遼純靶材。ti。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡(jiǎn)稱“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時(shí)尚消費(fèi)電子產(chǎn)業(yè)、節(jié)能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開發(fā)和應(yīng)用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲(chǔ)記錄材料為起點(diǎn)，經(jīng)過10多年的開拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級(jí)，尤特的技術(shù)及應(yīng)用涉獵范圍逐步擴(kuò)大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術(shù)及材料；信息存儲(chǔ)材料、導(dǎo)電散熱材料等。尤特一直倡導(dǎo)“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理，先后通過《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認(rèn)證并有效運(yùn)行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標(biāo)準(zhǔn)；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認(rèn)證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng)新，先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機(jī)制，并承擔(dān)多項(xiàng)省市立項(xiàng)的科研項(xiàng)目，公司目前已擁有幾十項(xiàng)自主研發(fā)新興材料及工藝的知識(shí)產(chǎn)權(quán)，是廣州市扶持科技型要點(diǎn)培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機(jī)構(gòu)的授予多個(gè)榮譽(yù)：如“國家生產(chǎn)力促進(jìn)獎(jiǎng)、國家有名商標(biāo)、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責(zé)任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)化達(dá)標(biāo)企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽(yù)。尤特全體同仁秉承“創(chuàng)造價(jià)值，分享價(jià)值“的核心價(jià)值觀，借鑒以往成功管理運(yùn)營經(jīng)驗(yàn)，持續(xù)深挖磁控濺射鍍膜材料下游應(yīng)用市場(chǎng)，不斷拓寬市場(chǎng)應(yīng)用領(lǐng)域，做優(yōu)做強(qiáng)鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

地區(qū)：廣東 廣州 花都區(qū)
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